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一种研磨抛光托盘

2016-03-08 10:10:39|行业专利|来源 中国涂附磨具网
摘要 申请号:201520746577.7申请日:2015.09.24国家/省市:中国湖南(43)
       申请号:201520746577.7
       申请日:2015.09.24
       国家/省市:中国湖南(43)
       主分类号:B24B 55/00(2006.01)
       授权公告号:205057800U
       授权公告日:2016.03.02
       分类号:B24B 55/00(2006.01)
       申请人:湖南宇晶机器股份有限公司
       发明人:杨佳葳; 龚涛; 谢俊
       代理人:王翀
       代理机构:44260
       申请人地址:湖南省益阳市长春工业园马良北路341号
       摘要:
       一种研磨抛光托盘,包括底座,所述底座为圆盘结构,上表面为自中心处的径向斜坡面;所述底座的中心处设有连接孔;所述底座的外圆周上设有突起支承面,所述支承面的支撑点高于圆盘平面。本实用新型结构简单,制造成本低,减小了托盘的质量、厚度以及体积;有较强的稳定性又可较大的提高斜坡面的角度,减少轴的长度,节约成本;采用筋结构,增加了强度,形成类扇叶状,使托盘做离心运动减少积砂。
       主权利要求:
       1.一种研磨抛光托盘,其特征在于,包括底座,所述底座为圆盘结构,上表面为自中心处的径向斜坡面;所述底座的中心处设有连接孔;所述底座的外圆周上设有突起支承面,所述支承面的支撑点高于圆盘平面。  
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