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专利:碳化硅冶炼方法

关键词 碳化硅 , 冶炼方法|2015-11-26 09:40:12|行业专利|来源 中国涂附磨具网
摘要 申请号:201410666277.8摘要:本发明是一种碳化硅冶炼方法,其步骤如下:对已选择的将作为晶种的碳化硅进行如下处理:破碎处理筛分处理,选取粒径达到3~8毫米的碳化硅采用酸洗...
       申请号:201410666277.8
       摘要:本发明是一种碳化硅冶炼方法,其步骤如下:对已选择的将作为晶种的碳化硅进行如下处理:破碎处理筛分处理,选取粒径达到3~8毫米的碳化硅采用酸洗方法进行提纯处理,然后用纯水进行冲洗;以石墨电极为中心,在0~10cm内放置6H碳化硅晶种0.1%~5%,在10cm~25cm范围内放置6H碳化硅晶种0.3%~8%,在25cm~40cm范围内放置4H碳化硅晶种1%~10%。本发明方法设计合理,可操作性强。通过在碳化硅冶炼中添加晶种有效地提高碳化硅生长效率,有效地控制碳化硅晶型,降低能耗。
       申请人: 江苏乐园新材料集团有限公司
       地址: 222000 江苏省连云港市新浦区浦南镇太平村太平路1号(永兴化纤公司前面)
       发明(设计)人: 朱立起 胡顺武 顾小方 李佩健
       主分类号: C01B31/36(2006.01)I
       分类号: C01B31/36(2006.01)I
       主权项:  一种碳化硅冶炼方法,其特征在于,其步骤如下:(1)SiC晶种处理:根据碳化硅晶型不同选择不同晶型的碳化硅作为晶种,对已选择的将作为晶种的碳化硅进行如下处理:先对碳化硅进行破碎处理筛分处理,选取粒径达到3~8毫米的碳化硅进行提纯处理,提纯采用酸洗方法,然后用纯水进行冲洗至pH值在6.5~7.5,烘干;(2)碳化硅晶种的添加:碳化硅晶种的添加位置以及添加量如下:以石墨电极为中心,在0~10cm内放置6H碳化硅晶种,添加的晶种占混料质量百分比的0.1%~5%,在10cm~25cm范围内放置6H碳化硅晶种,添加的晶种占混料质量百分比的0.3%~8%,在25cm~40cm范围内放置4H碳化硅晶种,添加的晶种占混料质量百分比的1%~10%。
       公开号:  104477917A
       公开日:  2015-04-01 
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