您好 欢迎来到涂附磨具网  | 免费注册
远发信息:磨料磨具行业的一站式媒体平台磨料磨具行业的一站式媒体平台
手机资讯手机资讯
官方微信官方微信

用于晶体加工的水基金刚石抛光液

关键词 抛光液|2014-09-19 09:16:01|行业专利|来源 中国涂附磨具网
摘要   申请号:201310071571.X申请人:天津市乾宇超硬科技有限公司摘要:本发明提供制备多种粒度的用于晶体加工的水基金刚石抛光液的方法,该抛光液适宜抛光多种晶体。使用高剪切乳...
  申请号:201310071571.X

申请人:天津市乾宇超硬科技有限公司

摘要:本发明提供制备多种粒度的用于晶体加工的水基金刚石抛光液的方法,该抛光液适宜抛光多种晶体。使用高剪切乳化机,该设备的搅拌工作头直径不低于56mm,最高转速不低于15000rpm;使用黏度调节剂,制成不同黏度的抛光液以满足诸多用户的不同需求。本发明产品具有抛光、润滑、冷却、除屑等功能。它的成分:水、金刚石、润湿剂、表面活性剂、黏度调节剂、防锈剂、润滑剂、消泡剂、防腐杀菌剂和pH调节剂。用1um单晶金刚石抛光液抛光SiC晶体,抛光效率达0.08um/min,其表面粗糙度Ra由80nm经抛光后降至0.91nm;用0.125um多晶纳米金刚石抛光液抛光SiC晶体其表面粗糙度Ra可达0.1~0.3nm。

主权利要求:1.用于晶体加工的水基金刚石抛光液的制造方法,其特征在于:(1)它的组成成分:水85~98%,金刚石0.1~10%,润湿剂0.2~3%,表面活性剂0.1~5%,黏度调节剂0.01~5%,防锈剂0~1%,润滑剂1~8%,消泡剂0.0005~0.1%,防腐杀菌剂0.02~1%,pH调节剂逐滴加入,不计入总量;(2)成分中的金刚石包括:用静压触媒法制造的亚毫米级金刚石经破碎、整形、粒度分级和提纯净化后获得的微米级和亚微米级单晶金刚石微粉;用爆轰法(负氧平衡法)制造的单晶纳米金刚石;以及用爆炸法制造的多晶纳米金刚石;(3)制造工艺中使用:高剪切乳化机,该设备的搅拌工作头直径不低于56mm,最高转速不低于15000rpm。它可使金刚石颗粒之间的软团聚充分分散,使多种试剂混合均匀,并使金刚石颗粒均匀地分散稳定地悬浮在液体中,转速控制在10000~15000rpm,处理时间10~60min。

2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:使用黏度调节剂,制成不同黏度的抛 光液以满足诸多用户的不同需求,所述的黏度调节剂是指下列试剂中的一种或多种混合:硅 酸镁铝、膨润土、凹凸棒土、蒙脱土、黄原胶、卡拉胶、阿拉伯胶、羧甲基纤维素钠、聚丙 烯酸钠。 

3.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的润湿剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:去离子水、乙二醇、聚乙二醇、丙三醇。 

4.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的表面活性剂是指下列试剂中的 一种或多种混合:聚乙二醇、六偏磷酸钠、十二烷基苯磺酸钠、丙三醇、1-缩二乙二醇、三 乙醇胺。 

5.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的pH调节剂是指下列试剂中的一 种或多种混合:氢氧化钾、氢氧化钠、碳酸钠、三乙醇胺、六偏磷酸钠、氨水、磷酸、硝酸、 氢氟酸。 

6.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的防锈剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:三乙醇胺、乙醇胺硼酸盐、重铬酸钾、苯丙三氮唑、碳酸钠、亚硝酸钠。 

7.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的润滑剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:乙二醇、聚乙二醇、脂肪皂酸、丙三醇。 

8.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的消泡剂是指下列试剂中的一种 或多种混合:乙醇、辛醇、聚氧丙烯氧化乙烯甘油醚、高碳醇脂肪酸酯复合物DSA-5、油酸、 乳化二甲基硅油。 

9.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于:所述的防腐杀菌剂是指下列试剂中的一 种或多种混合:脱氢醋酸钠、过氧化氢、2-苯基苯酚钠盐、对羟基苯甲酸乙酯钠、戊二醛、 山梨酸钾、苯甲酸钠、亚硝酸钠、次氯酸钙。
  ① 凡本网注明"来源:涂附磨具网"的所有作品,均为河南远发信息技术有限公司合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明"来源:涂附磨具网"。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
② 凡本网注明"来源:XXX(非涂附磨具网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。
③ 如因作品内容、版权和其它问题需要同本网联系的,请在30日内进行。
※ 联系电话:0371-67667020

延伸推荐

已完成半导体级抛光液的性能验证

近日,投资者就金太阳参股领航电子相关半导体产品问题向金太阳提问,公司表示,参股公司东莞领航电子新材料有限公司已完成IC、硅晶圆、碳化硅等半导体级抛光液的性能验证并具备量产能力......

日期 2025-01-08   涂附新闻

科隆股份:公司研发的纳米氧化铈粉体是化学机械抛光液的...

同花顺金融研究中心12月02日讯,有投资者向科隆股份(300405)提问,你好董秘,公司的氧化铈有使用在半导体生产过程中的抛光吗?  公司回答表示,尊敬的投资者,您好!公司研发的纳...

日期 2024-12-02   涂附新闻

天骄清美稀土抛光液获国家发明专利

近日,北方稀土天骄清美申请的“用于曲面玻璃盖板抛光的稀土抛光液及其制备方法和应用”,顺利通过国家知识产权局审查并获得国家发明专利授权(专利号ZL202310965201.4)。这是...

日期 2024-11-12   涂附新闻

安集科技(688019):24Q3收入利润同比加速增...

​安集科技发布2024三季报,24Q3收入5.15亿元,同比+59.3%/环比+23%;归母净利润1.59亿元,同比+97.2%/环比+23%;扣非净利润1.49亿元,同...

日期 2024-10-30   涂附新闻

CMP抛光液中常见的磨料材料有哪些?

1965年沃尔什和赫尔佐格提出二氧化硅溶胶和凝胶抛光的方法,自此,以二氧化硅浆料为代表的化学机械抛光(CMP)工艺就逐渐取代了机械抛光的主导地位;20世纪80年代中期,IBM公司将...

日期 2024-06-18   涂附新闻

金太阳:参股子公司已完成IC、硅晶圆、碳化硅等半导体...

金太阳在投资者互动平台表示,公司参股子公司领航电子主要业务为衬底(如硅晶圆、碳化硅、氮化镓等)制造过程中的抛光液以及芯片制造工艺中的CMP抛光液......

日期 2024-05-28   企业新闻

金太阳:参股子公司半导体用CMP抛光液部分产品现已实...

金太阳12月27日在互动平台表示,公司参股子公司东莞领航电子新材料有限公司主要产品包括了IC、硅晶圆、碳化硅用半导体抛光液,3C消费电子用精密抛光液和清洗液。其中,半导体用CMP抛...

日期 2023-12-28   企业新闻

国产替代风潮-CMP抛光液的兴起

CMP抛光液是一种用于半导体制造过程中的化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,简称CMP)工艺的关键材料,它可以有效地去...

日期 2023-12-26   涂附新闻

金太阳(300606.SZ):领航电子上半年已正式启...

金太阳(300606.SZ)于2023年11月09日接受特定对象调研,就“公司参股子公司的抛光液进展情况?”,公司表示,领航电子坚持核心产品技术与关键原材料自主研发的战略,上半年已...

日期 2023-11-10   企业新闻

CMP抛光液中,单一磨料和混合磨料的应用差异

化学机械抛光(ChemicalMechanicalPolishing,CMP)技术是超大规模集成电路制造工艺中的关键技术之一,能实现集成电路(IC)制造...

日期 2023-08-11   涂附新闻
一钻商城